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  • 化合物半導体ウェーハ平面研削用「ベガ」 有気孔ビトリファイドボンドホイール
    化合物半導体ウェーハ平面研削用「ベガ」 有気孔ビトリファイドボンドホイール 画像
    化合物半導体用のSiC基板などの平面研削で高品位な加工面を実現
    ■超微粒ダイヤモンドと大口径気孔と微小気孔のコンビネーション組織を持つビトリファイドボンドとの組み合わせにより、高品位な研削面を実現
    ■超微細破砕を実現するボンドの採用により、最小単位での自生発刃が実現でき切れ味が持続
    ■安定的に高品位面が得られ、加工コスト低減
  • 化合物半導体ウェーハ平面研削用「タフエア」 有気孔メタルボンドホイール
    化合物半導体ウェーハ平面研削用「タフエア」 有気孔メタルボンドホイール 画像
    サファイヤやSiC基板などの加工で高い研削性と長寿命を実現
    ■メタルボンドに気孔組織を導入し、食付きを高めて研削性の向上と、放熱性の向上により長寿命化を実現
    ■高剛性メタルボンドの耐摩耗性に加え、適度な自生発刃による切れ味の維持を実現
    ■長寿命化により、加工品質が安定し、加工コスト低減にも貢献
  • 難削材料高能率研削用 「メタレックス」ダイヤモンドホイール
    難削材料高能率研削用 「メタレックス」ダイヤモンドホイール 画像

    レジンボンドの切れ味とメタルボンドの耐摩耗性を併せもった、新しいコンセプトのメタルボンドホイールです。各種セラミックス、サファイア、石英、超硬合金、サーメット、焼入れ鋼などの高効率研削に優れた性能を発揮します。
    セルフドレッシング性に優れ、レジンボンドと比較しても切れ味が持続し、ドレスインターバルが向上します。
    レジンボンドでは、加工時の熱劣化や砥粒の脱落・埋没が発生し切れ味が低下するという課題があります。メタルボンドでは、砥粒の先端摩耗が進むと切れ味が悪化しドレスインターバルが短いという課題があります。
    「メタレックス」ホイールは、こうした課題に対応した新しいコンセプトのメタルボンドホイールで、切れ味の持続性に優れ、且つレジンボンドと比較して高寿命を実現しています。
    ボンドバリエーションも複数あるため各種素材に適用可能で、加工時間短縮に寄与します。

  • シリコンウェーハ用 高精度面取りホイール
    シリコンウェーハ用 高精度面取りホイール 画像

    ホイールの溝精度を高精度化しウェーハ加工精度とホイール寿命を向上したシリコンウェーハ用高精度面取りホイールです。面取り用の溝を外周に配したメタルボンドダイヤモンドホイールの溝精度と溝底部の幾何公差を従来品から大幅に向上しています。
    近年、半導体の高細線化などに伴いシリコンウェーハの外周エッジ稜線部の制御により外周付近のチップ歩留まりの向上を図るべく面取り幅や面取り形状の安定化を求めるニーズが増えています。

    当社のシリコンウェーハ用高精度面取りホイールは、こうしたニーズに応えるべく面取りホイールの溝形状および溝底部の精度を向上したホイールです。
    溝底の幾何公差向上により装置への面取りホイール取付時の振れが向上します。振れ向上により加工時に均一にホイール溝部がウェーハ外周に接触するため偏摩耗を抑制しホイール寿命向上に寄与します。

    【特徴】
    ■溝形状精度向上と溝底部の幾何公差を向上したシリコンウェーハ用面取りホイール
    ■高精度且つ振れを低減したことによりウェーハ最外周の面取り幅・形状が安定化
    ■ウェーハ最外周のエッジ領域形状が制御できチップ歩留まり向上に寄与
    ■ホイールの高精度化により装置取り付け時の振れを低減できホイール寿命の大幅な向上が可能

    【適応例】
    φ300mm(12インチ)シリコンウェーハの外周面取り・べべリング
    R型(ラウンド・フルラウンド)溝形状
     

  • 半導体ウェーハ面取り用 ダイヤモンドホイール
    半導体ウェーハ面取り用 ダイヤモンドホイール 画像

    半導体ウェーハの面取り用ホイールです。
    シリコンウェーハ用面取りホイールは、切れ味に優れ、溝形状の維持性が高い” ME ”ボンドをご提供いたします。仕上げ面粗さも良好で、面取り加工後のポリッシュ量を低減し、後工程の時間や消耗品の削減により、トータル加工コストの低減につながります。

    SiC・サファイアウェーハ用面取りホイールには、切れ味に優れ研削持続性に優れたボンド仕様のホイールをご提案いたします。少量・中量生産には電着ボンド面取りホイールもご提供できます。

    LT・LNウェーハ用面取りホイールには、脆性を伴うウェーハのチッピング発生を抑制するボンド仕様をご提供いたします。

    一般的なR型(ラウンド・フルラウンド)、T型の溝形状以外にも、左右非対称形状などの特殊形状にも対応いたしますので、ご相談ください。

     

    【ダイヤモンド面取りホイールの適用材質】

    シリコン、SiC ( 炭化ケイ素 / シリコンカーバイド )、サファイア、LT ( タンタル酸リチウム / リチウムタンタレイト )、LN ( ニオブ酸リチウム )、GaN ( 窒化ガリウム / ガリウムナイトライド )、GaAs ( ガリウムヒ素 )、石英

  • 半導体ウェーハノッチ部面取り用 ダイヤモンドノッチホイール
    半導体ウェーハノッチ部面取り用 ダイヤモンドノッチホイール 画像

    半導体ウェーハのノッチ部の面取り仕上げ用ホイールです。独自の加工技術によってシャンクに対するダイヤ層部の振れ精度が良好です。シリコンウェーハ以外にも、大型化してきているSiC(シリコンカーバイト)、LT(タンタル酸リチウム)などの化合物半導体ウェーハ用や石英ウェーハ用にも各種仕様のホイールを提供します。
    一般的なR型(ラウンド・フルラウンド)、T型の溝形状以外にも、左右非対称形状などの特殊形状にも対応いたしますので、ご相談ください。


    【ダイヤモンドノッチホイールの適用材質】

    シリコン、SiC ( 炭化ケイ素 / シリコンカーバイト )、LT ( タンタル酸リチウム / リチウムタンタレイト )、LN ( ニオブ酸リチウム )、石英、サファイア

  • PCD小径ドリル/多結晶ダイヤモンド小径ドリル
    PCD小径ドリル/多結晶ダイヤモンド小径ドリル 画像
    刃先にPCD/多結晶ダイヤモンドを使用した小径ドリルです。シリコンへの連続穴加工に適しています。スパイラル溝を配することで切り粉の排出性がよく、ステップ加工の頻度を減少させます。
  • ポリッシュ用研磨パッド向け "DEX" パッドドレッサ
    ポリッシュ用研磨パッド向け "DEX" パッドドレッサ 画像
    選別したダイヤモンド砥粒を台金に固着することにより、個体差の少ない安定したドレッシングを実現します。半導体デバイスの平坦化工程で使用する研磨パッドのドレッシングで活躍します。
  • ダイヤモンド複合ホイール
    ダイヤモンド複合ホイール 画像
    1つのホイールで粗、中、仕上げなど複数の加工を実現。一台の機械で工具の交換なしに複数の工程が行え、加工時間を短縮できます。粗加工にメタルボンド、中加工にレジンボンド、仕上げ加工にレジンボンドを組み合わせるなどの複合ホイールを提供します。
  • 硬質脆性材料研削加工用 ダイヤモンドコアドリル
    硬質脆性材料研削加工用 ダイヤモンドコアドリル 画像
    ダイヤモンドコアドリルは、硬脆性材料の穴あけ・コア抜き用途の製品でしたが、セラミックスをはじめとした硬質材料のマシニングセンタ / グライディングセンタでの形状加工に使用用途が広がっています。
    センタースルー構造でのクーラント供給により切粉の抜けがよく、切粉による工具・ワークへのダメージを軽減し、高効率な加工が可能です。
    切粉が溜まりやすい狭い幅でのヘリカル研削によるザグリ加工に最適な工具です。
    セラミックスへの高効率な穴あけ加工には最適な形状をご提案します。
    また強固なボンドブリッジ構造により長寿命で安定した切れ味を発揮します。